Национальная Академия Наук Азербайджана

Первый cайт Азербайджана (1995)

ГЛАВНАЯ  >>  Институты и организации  >>  Лаборатория фоточувствительных и оптически-прозрачных полимерных материалов

Лаборатория фоточувствительных и оптически-прозрачных полимерных материалов
Тел. (+994 18) 6441716
Факс (+994 18) 6420400
Электронный адрес ipoma@science.az
Заведующий структурным подразделением Гулиев Казым Гафар оглы

Доктор философии по химии

Общее количество сотрудников 8
Основные направления деятельности структурного подразделения  Синтез функциональнозамещённых цикло­про­пан­содержащих виниловых моно­меров, их гомо- и сополимеров  со стиро­лом, метил­метакрилатом, коньюгированны­ми диенами и с другими мономерами,  охватывает создание и использование  на их основе полимерных материалов с повышен­ной фоточувствительностью и оптической прозрачностью.

За период действия лаборатории про­водились научно-исследовательские работы по разработке эффективных методов синте­за нового класса циклопропансодержащих виниловых мономеров, по получению на их основе реакционноспособных функциональ­но-активных полимеров, по изучению зави­симости при радикальной гомо и сополиме­ризации между структурой и реакционной способностью этого типа мономеров и закономерностей и механизма процессов образования их высокомолекулярных соединений.

Основные научные результаты структурного подразделения За период действия лаборатории про­водились исследования по получению и эффективному синтезу функционализи­рованных мономеров, содержащих цикло­пропановые фрагменты и полимеров на их основе, обладающих фоточувстви­тель­ностью, ударопрочностью и повышен­ной оптической прозрачностью.

Выявлено, что полимеры, в составе которых имеются функционализированные циклопро­пан­содержащие фрагменты, благо­даря своим свойствам могут применяться во многих областях.Полимерные материалы, полученные на их основе наряду со свето- и электроночувствительностью, обладают и биологической активностью, ударопроч­ностью и высокой оптической прозрач­ностью и фоточувствительностью. При воздействии излучения (УФ или рентген) и электронных пучков циклопро­пансодержащие полимеры, способны обра­зовывать трёхмерную структуру –негативного типа резистных материалов.